拓荆科技高增背后:先进制程设备放量在即
近期机构研报指出,公司PECVD、ALD及三维集成设备持续扩产,α-Si、SiB等工艺加速导入先进逻辑与存储产线。PF-300L平台及新反应腔发往客户端验证,硬掩膜工艺覆盖能力提升。ALD设备批量订单落地,SACVD沟槽填充技术获多客户认可,产品验证进度领先。 研报认为,随着国产替代进程加快,公司在先进制程领域的设备放量趋势明确,规模效应带动费用率下降,叠加交易性金融资产收益贡献,利润增速远超营收。未来三年净利润有望持续高增,2027年估值具备上升空间,维持“买入”评级。 中财网
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