中微公司刻蚀设备放量促业绩翻倍
近期机构研报指出,中微公司核心刻蚀产品已在多个高端工艺节点实现大规模量产,CCP与ICP设备在7nm及以下制程取得突破,多款新型设备进入客户端验证阶段。研报认为,随着国内晶圆厂扩产提速,刻蚀设备需求持续旺盛,公司作为国产替代主力将深度受益。 研报指出,公司不仅在刻蚀领域加速放量,薄膜沉积、MOCVD设备也陆续进入量产或验证阶段,同时通过收购众硅科技补齐CMP环节,平台化布局日趋完善。基本面来看,未来三年业绩有望保持高增长,成长路径清晰,维持“增持”评级。 中财网
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